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工業(yè)自動(dòng)化發(fā)展熱潮正不斷升溫，尤其是在可確保設(shè)備安全性和可靠性的隔離設(shè)計(jì)方面上更是涌現(xiàn)了巨量的設(shè)計(jì)需求，引來(lái)可觀的商機(jī)。

工業(yè)自動(dòng)化四大技術(shù)挑戰(zhàn)

為了協(xié)助業(yè)界人士加速實(shí)現(xiàn)相關(guān)解決方案，本文除針對(duì)工業(yè)自動(dòng)化目標(biāo)市場(chǎng)的隔離應(yīng)用，專(zhuān)注于可編程邏輯控制器（PLC）和工廠自動(dòng)化的發(fā)展進(jìn)行詳細(xì)的市場(chǎng)與技術(shù)分析外，也詳細(xì)說(shuō)明了新型互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體（CMOS）數(shù)字隔離器相較于傳統(tǒng)光耦合隔離方案對(duì)工業(yè)自動(dòng)化應(yīng)用所帶來(lái)的顯著優(yōu)勢(shì)。

工業(yè)自動(dòng)化的發(fā)展道路上，所包含的許多技術(shù)挑戰(zhàn)包括：

第一：設(shè)備安全無(wú)法妥協(xié)

． 安全功能至關(guān)重要。

． 產(chǎn)品在高應(yīng)力下性能必須穩(wěn)定。

第二：高噪聲環(huán)境中的正常工作

． 工廠外部電／磁場(chǎng)的抗干擾性高。

． 高電壓瞬變?cè)肼暤目垢蓴_能力強(qiáng)。

第三：產(chǎn)品使用壽命長(zhǎng)

． 整個(gè)溫度范圍，不同VDD電壓，以及長(zhǎng)期使用時(shí)，關(guān)鍵參數(shù)必須穩(wěn)定。

． 在高應(yīng)力下產(chǎn)品使用壽命長(zhǎng)。

第四：高性能

． 產(chǎn)品性能必須世界頂尖。

． 低延遲和低延遲偏差以確保高效率和吞吐量。

基于上述的技術(shù)挑戰(zhàn)，適用于工業(yè)自動(dòng)化的高性能隔離產(chǎn)品也必須是高安全，高抗干擾性與長(zhǎng)壽命。 工廠存在很多高壓設(shè)備，透過(guò)隔離方案不僅能保護(hù)電子系統(tǒng)和人員，也能抑制噪聲以確保設(shè)備的可靠度和穩(wěn)定性。 隨著工業(yè)自動(dòng)化應(yīng)用對(duì)相關(guān)設(shè)備的性能要求提升，內(nèi)建隔離技術(shù)也開(kāi)始發(fā)生轉(zhuǎn)變，傳統(tǒng)的隔離使用光耦合技術(shù)，由于先天的特性逐漸難以滿(mǎn)足工業(yè)自動(dòng)化設(shè)計(jì)需求，包括可靠性較差、時(shí)序特性不佳、無(wú)余裕的共模瞬態(tài)噪聲免疫（CMTI）、能源效率低等，使業(yè)界開(kāi)始將目光移至新型的CMOS電容耦合數(shù)字隔離器方案。

使用差分電容耦合技術(shù) CMOS數(shù)字隔離器展高效

CMOS數(shù)字隔離器采用開(kāi)關(guān)鍵控調(diào)制技術(shù)的CMOS設(shè)計(jì)，并使用差分電容耦合，可以達(dá)成高可靠度和穩(wěn)定性，不會(huì)隨溫度、工作電壓和產(chǎn)品壽命而改變，另外還具備卓越的時(shí)序特性，包括低傳輸延時(shí)、低傳輸延遲偏差等。 更重要的是，CMOS數(shù)字隔離器具有高共模瞬態(tài)噪聲免疫（CMTI），而且相對(duì)于光耦，只需要較小的功率，因此可以降低總體系統(tǒng)功耗。 圖1及圖2為傳統(tǒng)光耦和CMOS數(shù)字隔離方案的比較。

圖1 傳統(tǒng)光耦隔離方案特性

圖2 新型CMOS數(shù)字隔離方案特性