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類型分類:
科普知識
數(shù)據(jù)分類:
粒度儀

能譜儀面掃描定量分析

發(fā)布日期:2022-05-30 點擊率:39

  嚴格講能譜儀(EDS)準確定量應該用點分析方法,但對斷口,腐蝕產(chǎn)物,粉體等不平試樣,一般是不符合試樣表面平、電子束垂直人射的EDS點定量分析條件,但在許多實際分析中,面掃描定量分析結果也非常有價值。實踐證明,面掃描定量分析結果可以解釋許多實際問題和科學問題。為了提高分析準確度,在可能的分析條件下,掃描分析范圍應盡量小,因為電子束掃描范圍越小,電子束越接近于垂直入射。
  電子束掃描分析范圍由放大倍率確定。放大倍率M是掃描顯示(CRT)的線性尺度(L)與試樣上掃描范圍的相應長度(l)之比:M=L/l。當用SEM照相的顯示屏顯示時,顯示屏的線性尺度(寬度)L為100mm,在試樣上的掃描范圍:l=L/M=100mm(CRT)/M
  例如,當SEM放大倍率M為20倍時,在試樣上的掃描范圍為5mm。放大倍率為1000倍時,分析范圍為100μm。如果放大圖像用大顯示屏觀察時,式中的L用大顯示屏的線性尺度(寬度)替代。表(放大倍率與分析范圍)為L=100mm時,常用的放大倍率的電子束在試樣上的分析范圍值。

放大倍率與分析范圍.jpg

氧化鋯的二次電子像.jpg

  第二張圖為放大十萬倍的納米氧化鋯的二次電子像,整個圖像的范圍只有約1pm。如果在十萬倍進行掃描定量分析,成分分析范圍只有1μm,相當于定點分析。盡管圖氧化鋯試樣的表面不平,但因為高放大倍率電子束掃描范圍小,仍可用高倍掃描的方法獲得較好的成分定量結果。對低倍掃描定量分析,由于電子束掃描范圍大,與電子束垂直入射條件相差較遠,會影響定量結果的準確度。

標簽:                                    能譜儀

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