發布日期：2022-11-05 點擊率：38
真空鍍膜是一種干法鍍膜，已經開發了三四十種成膜方法，幾乎能適應任何基板和沉積任何金屬、合金和化合物。
類型 | PVD | CVD | ||||
蒸發鍍 | 濺射鍍 | 離子鍍 | 低壓CVD | 等離子體CVD | 光CVD | |
方法 | 電阻加熱 電子束 高頻感應 激光 反應
分子束外延 離子束輔助 | 二極、三極、四極 射頻 偏壓 對象靶
磁控 離子束 反應 | 直流二級 空心陰極 活性反應蒸發 射頻放電 電弧 濺射 高頻感應加熱 離子束鍍 離子團束鍍 | 電阻加熱 高頻感應加熱 氙燈脈沖加熱 熱絲 有機金屬
超高真空 | 直流 射頻 脈沖 微波 電子回旋 共振 | 激光 紫外光 |
鍍膜室真空度Pa | 10-2~10-7 | 1~10-2 | 1~10-1 | 103~104 | 10-1~104 | 1~102 |
基板溫度℃ | 常溫~500 | 常溫~500 | 200~600 | 700~1200 | 200~600 | 常溫~500 |
沉積粒子能量eV | 10-1~1 | 1~10 | 10~103 | - | - | - |
沉積速率μm/min | 10-1~10 | 10-2~1 | 10-1~10 | 10-1~10 | 10-1~10 | 10-1~10 |
繞鍍性 | 差 | 差 | 良 | 優 | 優 | 良 |
附著力 | 弱 | 中 | 強 | 強 | 強 | 中 |
(慧樸科技,huiputech)
下一篇： PLC、DCS、FCS三大控
上一篇： 間斷排氣的作用原理
