真空爐主要由爐體、真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、電源、防爆系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。
臥式真空爐的爐體端部開口，在水平方向進料和出料，加熱室底部有支承爐料的底架。立式真空爐爐體在上端部或下端部開口，在水平方向裝料和出料，在垂直方向進料，加熱室底部有支承爐料的底架。
在真空爐加熱前，真空系統(tǒng)應能把爐室抽到預定的壓力。在加熱階段，輸入功率應能調(diào)節(jié)。在冷卻階段，爐料在加熱室內(nèi)應能在不同壓力下和中性氣體(包括惰性氣體，下同)中冷卻。
所有處于加熱室內(nèi)部的材料應適應于設計規(guī)定的氣氛、壓力和溫度。各種材料在工作溫度下對真空爐自身不造成損壞。
爐殼應采用雙層水冷壁結構。爐殼內(nèi)表面應光潔平滑。內(nèi)壁可用抗氧化材料制成，也可用普通碳素鋼,但應該拋光。
除另有要求外，臥式爐的爐門可支承在爐殼的左側而從右往左打開，也可采用其他結構。立式爐的爐門應能在水平方向滑動或旋開。爐門上應有玻璃觀察窗。
真空爐的加熱區(qū)應圍以絕熱屏，絕熱屏應為各種保溫材料或金屬屏。所用的材料應是耐熱的，在工作中不下垂、開裂或剝離。
爐床應采用其性能與真空爐工作條件相適應的材料制成。在真空爐的整個工作溫度范圍內(nèi)，爐床應能承受最大裝載量而不損壞或無明顯變形。在爐殼體上應配備供測量爐溫均勻性用的熱電偶引出裝置。
水冷系統(tǒng)應能使爐殼的筒體、封頭和爐門的表面溫升不超過35℃。對局部超過并且操作人員易接近的部位應加以防護并加以警示。
真空爐應能充入保護性氣體，并配備必要的風機或氣體噴嘴、控制閥及換熱器等，用來使氣體循環(huán)通過爐料和爐室，均勻地冷卻爐料。
真空爐的真空系統(tǒng)由真空泵、管道、閥門、冷阱、波紋管、控制系統(tǒng)、真空計等組成。系統(tǒng)中應裝有自動閥門，以便在泵突然停止運轉或發(fā)生停電時自動關閉，并將大氣放入前級機械泵腔中，防止真空泵油逆流污染真空系統(tǒng)。
爐溫控制系統(tǒng)可以是磁性調(diào)壓器或晶閘管型式，具有陡降的外特性，控制系統(tǒng)應能限制輸入功率不超過所要求的最大值。
真空爐應配備溫度給定精度不低于0.1%，分辨率不低于1℃的微處理器數(shù)字顯示式控溫儀表。儀表應備有外接模擬發(fā)送端口，以便連接記錄儀。
真空爐應配備數(shù)字顯示式真空儀表，其范圍應從100000 Pa到極限壓力。
壓力和溫度記錄儀表應當配備打印式或無紙式記錄儀。
真空爐應配備程序控制器，以供編程，并按所編程序自動地控制真空、加熱和冷卻的全過程。每臺真空爐應能在加熱時，在任何設定溫度下通過充入保護性氣體把爐室內(nèi)壓力提高到所要求的值。加熱速率和時間應可調(diào)。控制系統(tǒng)應配備微處理器或可編程序控制器，以便在真空爐設計規(guī)定范圍內(nèi)有最大的控制靈活性。微處理器或可編程序控制器應具有不少于60個讀寫隨機存取記憶程序段，程序可用鍵盤輸入。
除自動控制系統(tǒng)外，真空爐還應配有手動控制系統(tǒng)，以備試驗時或緊急情況下使用。
真空爐應配備落地式、在制造廠接好線(儀表可除外)的控制裝置，用來安裝儀表和控制元器件等。控制系統(tǒng)中至少應有兩套熔斷器或斷路器：一套用于加熱元件的供電，另一套用于泵、電動機和控制系統(tǒng)的供電。應有模擬屏以指示真空爐的運行情況。所有控制線纜都應該封裝在電纜橋架盒內(nèi)或鍍鋅金屬穿線軟管內(nèi)，無法封裝的線纜應該用絕緣材料絕緣并配有顯著的警示標志。
真空爐的充放氣系統(tǒng)由管路、閥門、氣壓表等組成。真空爐的充放氣系統(tǒng)應有兩路，一路為自動，一路為手動。在突然斷電時可通過手動向爐內(nèi)充入保護性氣體。
真空爐應配備防爆系統(tǒng)，用來防止充氣時爐內(nèi)壓力過高損壞爐子。
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